Історія, цінності та наукова експертиза команди NanoPrint Tech у сфері 3D-наноструктурування.
Історія NanoPrint Tech бере свій початок з фундаментальних академічних досліджень в області квантової оптики, лазерної фізики та матеріалознавства. Прагнучи подолати фізичні обмеження традиційних планарних технологій та класичної фотолітографії, наша команда об'єднала зусилля для створення першого в регіоні комерційного центру мікрофабрикації.
Сьогодні ми надаємо високотехнологічні послуги 3D нанодруку та наноімпринтної літографії для B2B клієнтів з усього світу. Використання передових фемтосекундних лазерних систем для 2PP дозволяє нам виготовляти тривимірні мікроструктури на замовлення з субмікронною точністю до 10 нанометрів.
Наша місія полягає в тому, щоб забезпечити дослідників та інженерів інноваційними інструментами для створення біосенсорів, мікрофлюїдних чіпів (Lab-on-a-Chip), плоских лінз та компонентів квантових комп'ютерів нового покоління.
Повний спектр технологій безмаскової та імпринтної літографії.
Сувора відповідність міжнародним стандартам якості R&D розробок.
Повна конфіденційність та захист інтелектуальної власності клієнтів.
Ми гарантуємо мікро- та нанорозмірну точність кожного елемента. Наші скануючі електронні мікроскопи та атомно-силові мікроскопи контролюють кожну деталь на воксельному рівні.
Ми безперервно досліджуємо нові фотополімери для нанодруку, біосумісні гідрогелі та нанокомпозитні оптичні смоли з унікальними показниками заломлення.
Для B2B партнерів ми пропонуємо сувору конфіденційність, безпечну передачу CAD файлів та розробку прототипів мікросхем під суворим юридичним захистом.
Експерти в галузі нанотехнологій, лазерної фізики та матеріалознавства, які керують процесами мікрофабрикації.
Понад 15 років досвіду в області лазерне прямого запису (DLW) та розробки ультраточних 3D лазерних систем для 2PP.
Провідний дослідник фоторезистів, антиадгезійних покриттів та біосумісних гідрогелів для тривимірної мікрофабрикації.
Експерт з наноімпринтної літографії (NIL), виготовлення кварцових матриць та гарячого тиснення наноструктур.
Керує процесами оптимізації вокселів, підготовки CAD моделей та комп'ютерної симуляції експонування наноструктур.